為高精度非接觸式光學測量儀器,采用白光干涉技術實現 亞納米級表面形貌檢測與分析,廣泛應用于微納結構表征、薄膜厚度測量及精密 元件表面質量評估。
突破性測量精度
非接觸無損檢測
寬域材料適配性
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光學膜表面光學結果 | 5um凹槽深度,顯示屏幕表面缺陷分析 | 675nm臺階蝕刻臺階 |
Ra=0.597nm CMP拋光后晶圓表面粗糙度 | 20um凹槽深度及面型分析 | 凸點形貌測量 |
光學膜表面光學結果 | 5um凹槽深度,顯示屏幕表面缺陷分析 |
675nm臺階蝕刻臺階 | Ra=0.597nm CMP拋光后晶圓表面粗糙度 |
20um凹槽深度及面型分析 | 凸點形貌測量 |
優于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm | 毫米級視野,實現5nm 有機油膜厚度掃描 | 納米級精度,實現微米級的深度寬度測量 |
自動聚焦,自動調平,一鍵生成統計報告 | 全新搭載ECT抗干擾系統,兼容生產線自動化測量 | 全新人機交互軟件設計,充分提高使用便捷性 |
優于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量Ra=0.7nm | 毫米級視野,實現5nm-有機油膜厚度掃描 |
納米級精度,實現微米級的深度寬度測量 | 自動聚焦,自動調平,一鍵生成統計報告 |
全新搭載ECT抗干擾系統,兼容生產線自動化測量 | 全新人機交互軟件設計,充分提高使用便捷性 |